===== Chlorine Dioxide Gas =====
-
Formaldehyde¿Í °°ÀÌ, Chlorine dioxide´Â ÇϳªÀÇ true gasÀÌ´Ù.
±×°ÍÀÇ ºñµîÁ¡Àº 11 ¢ªCÀÌ¸ç ±¤¹üÀ§ÇÑ À¯±â¹°¿¡ È¿°ú°¡ ÀÖ°í, ¹ß¾Ï¼ºÀÌ ¾Æ´Ï¸ç ÀÜÁ¸¹°À» ³²±âÁö ¾Ê°í,
U.S. EPA°¡ ½Ç³»¸¦ Æ÷ÇÔÇÏ¿© rooms(clean rooms, holding rooms, surgical suites and procedure rooms)¸¦ Æ÷ÇÔÇÏ¿© ¿©·¯ °¡Áö chamber¿¡ ÀûÇÕÇÏ´Ù°í ½ÂÀÎÇÏ¿´´Ù (ClorCDiSys Solutions, Inc., 2007). //
-
CD¸¦ »ý»êÇÏ´Â ¹æ¹ýÀº ¿©·¯ °¡Áö°¡ ÀÖÁö¸¸ gas·Î ¸¸µå´Â ÈçÇÑ ¹æ¹ýÀº º¸´Ù ¾ÈÀüÇÏ°í ¹±Àº 2% chlorine gas¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ´Â °ÍÀε¥,
ÀÌ°ÍÀ» sodium chlorite cartridges À§·Î Åë°ú½ÃÄÑ chamber¿¡ ºÎ»ê¹°À» ³²±âÁö ¾Ê°í ¼ø¼öÇÑ chlorine dioxide gas¸¦ ¸¸µé¾î chamber·Î À¯ÀÔ½ÃŲ´Ù.
ÀÌ°ÍÀÌ °¡½º »óÅÂÀÇ CD¿Í ¾×ü»óÅÂÀÇ chlorine dioxide »çÀÌÀÇ ÁÖ¿ä Â÷ÀÌÁ¡ÁßÀÇ ÇϳªÀÌ´Ù.
ÀÌ ¾×ü¸¦ °¡Áö°í CD¸¦ ¹ß»ý½ÃÅ°°íÀÚ »ê(acids)ÀÌ »ç¿ëµÇ¸ç ±×·¯¹Ç·Î ÀÌ ¾×ü´Â »ê¼ºÀÌ°í ¾×»óÀÇ CD¸¦ »ç¿ëÇÏ°Ô µÇ¸é ºÎ½ÄÀÇ ¿øÀÎÀÌ µÈ´Ù. //
-
CD´Â ½Ç¿Â¿¡¼ ±âüÀ̸ç, ÀÀ°áÀÌ µÇÁö ¾Ê°í ½Ç³»ÀÇ ¿©·¯ °¡Áö ÀÚ¿¬ »óÅÂÀÇ ¿Âµµ¿¡¼´Â ¿µÇâÀ» ¹ÞÁö ¾Ê´Â´Ù.
±âü»óÅÂÀÇ CD »ç¿ë ½Ã ´ÜÁ¡Àº vapor systemÀÇ ±×°Í¿¡ ¹ö±Ý°¡´Â µ·ÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù´Â °ÍÀÌ´Ù.
Á÷»ç±¤¼±À» ÇÇÇÏ¿©¾ß Çϴµ¥ ±×°ÍÀº CD¸¦ ºÐÇØÇÏ¿© ¿À¿°Á¦°Å ½Ã È¿°ú¸¦ ¶³¾îÆ®¸®°í ºÎ½ÄÀ» ÀÏÀ¸Å³ ¼ö°¡ Àֱ⠶§¹®ÀÌ´Ù. //
-
CD´Â Ãß°¡ÀûÀ¸·Î UV-VIS spectrophotometer·Î monitorÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÀÌÁ¡ÀÌ ÀÖ´Ù (NIE systems¿Í ºñ½ÁÇϳª VHP systems¿Í´Â ÅëÇÕµÇÁö ¾ÊÀ½).
CD´Â ³·Àº ³óµµ (360 ppm-1800 ppm)·Î »ç¿ëµÇ°í, formaldehyde (0.5-2 ½Ã°£)¿Í ºñ±³ÇÏ¿© contact timesÀÌ Âª°í, »ç¿ëÇÏ´Â ³óµµ¿¡¼ Üôæ×àõÀ̸ç, ¹°¿¡ ³ìÀ» ¼ö ÀÖ¾î dissolved gas·Î½á ¿ë¾×»óÅ·ΠÁ¸ÀçÇÏ°í,
¾î´À Á¤µµ±îÁö´Â °¡¼öºÐÇØ°¡ ÀϾÁö ¾Ê´Â´Ù (Aieta et al., 1986).
»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó, ³ëÃâÀÌ ³¡³ ÈÄ º°µµÀÇ Ã»¼Ò°¡ ºÒÇÊ¿äÇÏ°í ³ëÃâÀÌ ³¡³ª´Â ½ÃÁ¡¿¡¼ Á÷Á¢ ȯ±âµÇ°Å³ª ¹®Áú·¯ ´Û¾Æ³¾ ¼ö ÀÖ°í ¿À·£ ½Ã°£ µ¿¾È ³²¾ÆÀÖ´Â VHP¿Í´Â ´Þ¸® areationÀÌ ÈξÀ ºü¸£´Ù. //
-
CD´Â ¹æÀÌ ºñ¾î Àְųª Àåºñ·Î ²Ë Â÷ À־ Å« ±Ô¸ð·Î ½±°Ô ¾çÀ» ¸ÂÃß¾î »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
ÀüÇüÀûÀ¸·Î, ¸Å 30,000 ft3¸¶´Ù ÇϳªÀÇ ¹ß»ýÀåÄ¡°¡ ÇÊ¿äÇÏ´Ù.
±×°ÍÀº ½Ç¿Â¿¡¼ ±âü »óÅÂÀ̹ǷΠ°ø°£ÀÌ Å©°Ç, ¹æÀÌ ¿©·¯ °³ÀÌµç ¶Ç´Â ¹æ¿¡ ÀåºñµéÀÌ ²Ë Â÷ ÀÖ°Ç ¹®Á¦°¡ µÇÁö ¾Ê´Â´Ù.
¸ðµç ±âü³ª vapor ¹æ¹ý°ú ¸¶Âù°¡Áö·Î ¼±Ç³±â¸¦ Ʋ¾îÁÖ¸é ºÐ»ê°ú È®»ê¿¡ µµ¿òÀÌ µÈ´Ù. ///
|